La compañía Meiden Nanoprocess Innovation se dedica a la Investigación y Desarrollo de ozono desde hace aproximadamente 20 años. Su dispositivo estrella es el generador de ozono puro y altamente concentrado. Este generador permite la producción de radicales OH, utilizando una mezcla de gas etileno y ozono puro. Estos radicales OH pueden ser utilizados para el tratamiento de superficies, principalmente en aplicaciones de modificación, inundación, pretratamiento para la unión y otros tratamientos rápidos, sin daño y estables. Las principales aplicaciones son el tratamiento de superficies de semiconductores, tecnología de unión, vidrio y otros materiales base. Además, el gas de ozono puro también se puede utilizar para la deposición de ALD, ofreciendo ventajas como la baja temperatura y la posibilidad de ser utilizado en una amplia gama de aplicaciones. En términos de deposición de películas, esta tecnología de ozono permite una deposición a baja temperatura, en un rango que va desde la temperatura ambiente hasta los 150°C. También permite la penetración profunda en microcanales, lo cual favorece un crecimiento de películas de alta calidad con una alta penetración. Las principales aplicaciones son los semiconductores y los materiales base de baja resistencia al calor, como películas y vidrio. La compañía ofrece servicios de tratamiento de superficies y deposición de películas utilizando ozono puro. Por lo tanto, se sugiere ponerse en contacto con ellos si se está interesado en estos servicios.Generated by OpenAI
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